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高精度化学铜控制器

高精度化学铜控制器

  • 所属分类:化学铜控制器
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  • 发布时间:2023-07-12 09:06:12
  • 产品概述

高精度化学铜控制器是一种先进的控制设备,主要用于精确控制化学铜沉积过程中的各项参数,如温度、电流密度、电位等。其采用先进的传感器和控制算法,能够实时监测沉积过程中的各项参数,并根据设定值进行自动调整,以达到最 佳的沉积效果。与传统的手动调整方式相比,高精度化学铜控制器能够提高沉积的稳定性和一致性,减少人为因素的影响,从而提高铜沉积的质量和效率。

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型号

Cu-11000

分辨精度

0.01

测量范围

0~35g/L

电源

200-240VA.50Hz,500W

传感器

浸泡式传感器/流通式传感器

外形尺寸

Cu-200:1220X650X1500(mm)

Cu-8058:790X550X1300(mm)

Cu-611:1220X650X1500(mm)

化学铜自动添加控制器,利用光电 比色原理自动分析铜离子浓度,当 铜离子浓度低于/高于设定值时,控 制器按要求自动添加药水/停止添 加药水,保证铜缸铜离子浓度在设 定范围。探头采用进口配件,具有精 度高、性能稳定,适应药水范围广,故障少等特点。

主要性能及特点:

1.10寸全彩触摸屏显示、PLC运算,运行稳定 

2.进口LED灯铜离子感应器,高精度

3.柱状添加、添加量稳定准确,可任意比例添加

4.铜离子浓度过高过低报警功能

5.铜浓度分析记录功能,可查询1个月的铜浓度分析记录

6.故障自动侦测,提示相应故障并发生声光报警

7.铜含量:0~35g/L,分辨精度0.01 g/L

8.具有自动消铜功能

9.联网功能可接入公司局域网(选装)。


化学铜自动添加控制器安装结构示意图

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